Создан первый российский фотолитограф с разрешением 350 нм

Об этом сообщил мэр Москвы Сергей Собянин.

"В мире меньше десяти стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе - Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства", - говориться в сообщении.

Также сейчас идёт разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году.

#литография #производствоэлектроники #новостиэлектроники